TFT-LCD ishlab chiqarish jarayonida CVD yotqizish jarayonida ishlatiladigan maxsus gaz jarayoni: silan (S1H4), ammiak (NH3), fosfor (pH3), kulgi (N2O), NF3 va boshqalar va jarayonga qo'shimcha ravishda yuqori tozalik vodorod va yuqori toza azot va boshqa yirik gazlar.Buzilish jarayonida argon gazidan foydalaniladi va purkash plyonka gazi purkashning asosiy materiali hisoblanadi.Birinchidan, plyonka hosil qiluvchi gaz maqsad bilan kimyoviy reaksiyaga kirishishi mumkin emas va eng mos gaz inert gazdir.Aşınma jarayonida katta miqdordagi maxsus gaz ham qo'llaniladi va elektron maxsus gaz asosan yonuvchan va portlovchi va juda zaharli gazdir, shuning uchun gaz yo'li uchun talablar yuqori.Wofly Technology ultra yuqori tozalikdagi transport tizimlarini loyihalash va o'rnatishga ixtisoslashgan.
Maxsus gazlar asosan LCD sanoatida plyonka hosil qilish va quritish jarayonlarida qo'llaniladi.Suyuq kristalli displey turli xil tasnifga ega, bu erda TFT-LCD tez, tasvir sifati yuqori va xarajat asta-sekin kamayadi va hozirda eng ko'p ishlatiladigan LCD texnologiyasi qo'llaniladi.TFT-LCD panelini ishlab chiqarish jarayonini uchta asosiy bosqichga bo'lish mumkin: oldingi qator, o'rta yo'naltirilgan boks jarayoni (CELL) va bosqichdan keyingi modulni yig'ish jarayoni.Elektron maxsus gaz asosan oldingi massiv jarayonining plyonka shakllanishi va quritish bosqichiga qo'llaniladi va SiNX metall bo'lmagan plyonka va eshik, manba, drenaj va ITO mos ravishda yotqiziladi va eshik kabi metall plyonka, manba, drenaj va ITO.
Yuborilgan vaqt: 2022 yil 13-yanvar